「ウエハ洗浄装置の世界市場予測(~2022年)」調査レポート:ウエハ洗浄装置、ウエハ洗浄技術

※最新の市場動向、市場規模、未来予測などが分かる!

「ウエハ洗浄装置の世界市場予測(~2022年)」調査レポート:ウエハ洗浄装置、ウエハ洗浄技術


H&Iグローバルリサーチ(株)
***** MarketReport.jp「ウエハ洗浄装置の世界市場予測(~2022年)」調査レポートを取扱開始 *****

H&Iグローバルリサーチ株式会社(本社:東京都中央区)は、この度、MarketsandMarketsが発行した「ウエハ洗浄装置の世界市場予測(~2022年)」調査レポートの取扱・販売をMarketReport.jpサイト(取扱レポート数:15万件以上、日本最大級)にて開始しました。国内企業の海外進出、事業戦略策定や新規事業創出などに必要な情報資料です。

***** レポート概要 *****
◆日本語タイトル:ウエハ洗浄装置の世界市場予測(~2022年)
◆英語タイトル:Wafer Cleaning Equipment Market by Equipment Type (Single-Wafer Spray Systems, Single-Wafer Cryogenic Systems, Batch Immersion Cleaning Systems, Batch Spray Cleaning Systems, and Scrubbers), Application, Wafer Size, and Geography – Global Forecast to 2022
◆商品コード:MAM-SE1235
◆発行会社(調査会社):MarketsandMarkets
◆ページ数:149
◆レポート言語:英語
◆レポート形式:PDF
◆納品方法:Eメール
◆調査対象地域:グローバル
◆産業分野:産業装置
◆キーワード:ウエハ洗浄装置、ウエハ洗浄技術

***** レポート目次(一部抜粋) *****
TABLE OF CONTENTS

1 INTRODUCTION 14
1.1 OBJECTIVES OF THE STUDY 14
1.2 MARKET DEFINITION 14
1.3 SCOPE OF THE STUDY 15
1.3.1 MARKETS COVERED 15
1.3.2 YEARS CONSIDERED FOR THE STUDY 15
1.4 CURRENCY 16
1.5 PACKAGE SIZE 16
1.6 LIMITATIONS 16
1.7 STAKEHOLDERS 16

2 RESEARCH METHODOLOGY 17
2.1 RESEARCH DATA 17
2.1.1 SECONDARY DATA 19
2.1.1.1 List of major secondary sources 19
2.1.1.2 Key data from secondary sources 20
2.1.2 PRIMARY DATA 20
2.1.2.1 Breakdown of primaries 20
2.1.2.2 Key data from primary sources 21
2.1.2.3 Secondary and primary research 21
2.1.2.4 Key industry insight 22
2.2 MARKET SIZE ESTIMATION 22
2.2.1 BOTTOM-UP APPROACH 23
2.2.1.1 Approach for capturing the market share by bottom-up analysis (demand side) 23
2.2.2 TOP-DOWN APPROACH 24
2.2.2.1 Approach for capturing the market share by top-down analysis (supply side) 24
2.3 MARKET BREAKDOWN AND DATA TRIANGULATION 26
2.4 RESEARCH ASSUMPTION 27

3 EXECUTIVE SUMMARY 28

4 PREMIUM INSIGHTS 34
4.1 ATTRACTIVE GROWTH OPPORTUNITIES IN THE WAFER CLEANING EQUIPMENT MARKET 34
4.2 WAFER MARKET, BY APPLICATION 34
4.3 WAFER CLEANING EQUIPMENT MARKET IN ASIA-PACIFIC 35
4.4 WAFER MARKET, BY WAFER SIZE 35

5 MARKET OVERVIEW 36
5.1 INTRODUCTION 37
5.2 MARKET SEGMENTATION 37
5.2.1 BY APPLICATION 37
5.2.2 BY WAFER SIZE 37
5.2.3 BY EQUIPMENT TYPE 38
5.2.4 BY GEOGRAPHY 38
5.3 MARKET DYNAMICS 39
5.3.1 DRIVERS 39
5.3.1.1 Rise in conventional applications of micro-electromechanical systems 39
5.3.1.2 Expansion in the number of cleaning steps in the wafer manufacturing industry 40
5.3.2 RESTRAINTS 40
5.3.2.1 Environmental concerns related to hazardous chemicals and gases generated during wafer cleaning process 40
5.3.3 OPPORTUNITIES 40
5.3.3.1 Increasing demand for silicon-based sensors in IoT 40
5.3.3.2 Increasing demand for wafers in 3D structure 41
5.3.4 CHALLENGES 41
5.3.4.1 Increasing complexities related to miniaturized structures of circuits 41
5.3.4.2 Concerns about compatible materials and toxic chemicals emitted during wafer cleaning 41

6 INDUSTRY TRENDS 42
6.1 INTRODUCTION 42
6.2 VALUE CHAIN ANALYSIS 42
6.3 PORTER’S FIVE FORCE ANALYSIS 43
6.3.1 THREAT OF SUBSTITUTES 44
6.3.2 BARGAINING POWER OF SUPPLIERS 45
6.3.3 BARGAINING POWER OF BUYERS 46
6.3.4 INTENSITY OF COMPETITIVE RIVALRY 47
6.3.5 THREAT OF NEW ENTRANTS 48

7 TECHNOLOGIES AND PROCESSES USED IN WAFER CLEANING EQUIPMENT 49
7.1 INTRODUCTION 50
7.2 WET CHEMICAL CLEANING PROCESS 50
7.2.1 HF ACID SOLUTION 51
7.2.2 SULFURIC ACID SOLUTIONS 51
7.2.3 RCA CLEANING PROCESS 51
7.2.4 ALTERNATIVE CLEANING SOLUTION 52

7.3 VAPOR DRY CLEANING PROCESS 52
7.3.1 VAPOR PHASE CLEANING PROCESS 52
7.3.2 PLASMA STRIPPING AND CLEANING 52
7.4 AQUEOUS CLEANING PROCESS 53
7.4.1 AQUEOUS FEOL CLEANING PROCESS 54
7.4.2 AQUEOUS BEOL CLEANING PROCESS 55
7.5 CRYOGENIC AEROSOLS AND SUPER-CRITICAL FLUID CLEANING 55
7.6 EMERGING TECHNOLOGIES 55
7.6.1 LASER CLEANING 55
7.6.1.1 Dry laser cleaning 56
7.6.1.2 Steam laser cleaning 56
7.6.2 AQUEOUS-BASED EMERGING TECHNOLOGIES 56
7.6.2.1 Foam/bubble cleaning 56
7.6.2.2 Immersion pressure pulsation cleaning 56
7.6.2.3 Spray pressure pulsation cleaning 56
7.6.3 CHEMICAL-BASED EMERGING TECHNOLOGIES 56
7.6.4 DRY PARTICLE REMOVAL 56
7.6.4.1 Liquid clusters 56
7.6.4.2 Nano probe cleaning 56

8 OPERATING MODE OF WAFER CLEANING EQUIPMENT 57
8.1 INTRODUCTION 58
8.2 AUTOMATIC EQUIPMENT 58
8.3 SEMI-AUTOMATIC EQUIPMENT 58
8.4 MANUAL EQUIPMENT 59

9 WAFER MARKET, BY WAFER SIZE 60
9.1 INTRODUCTION 61
9.2 125MM 62
9.3 200MM 63
9.4 300MM 64

10 WAFER MARKET, BY APPLICATION 66
10.1 INTRODUCTION 67
10.2 MEMS 68
10.3 CIS 69
10.4 MEMORY 69
10.5 RF DEVICE 70
10.6 LED 70
10.7 INTERPOSER 72
10.8 LOGIC 72
10.9 OTHERS 73

11 WAFER CLEANING EQUIPMENT MARKET, BY EQUIPMENT TYPE 74
11.1 INTRODUCTION 75
11.2 SINGLE-WAFER SPRAY SYSTEMS 76
11.3 SINGLE-WAFER CRYOGENIC SYSTEMS 79
11.4 BATCH IMMERSION CLEANING SYSTEMS 81
11.5 BATCH SPRAY CLEANING SYSTEMS 84
11.6 SCRUBBERS 86

12 WAFER CLEANING EQUIPMENT MARKET, BY GEOGRAPHY 89
12.1 INTRODUCTION 90
12.2 NORTH AMERICA 91
12.2.1 U.S. 92
12.2.2 CANADA AND MEXICO 93
12.3 EUROPE 94
12.3.1 GERMANY 95
12.3.2 U.K. 96
12.3.3 ITALY 96
12.3.4 IRELAND 97
12.3.5 ISRAEL 98
12.3.6 FRANCE 98
12.3.7 REST OF EUROPE 99
12.4 ASIA-PACIFIC 100
12.4.1 CHINA 102
12.4.2 JAPAN 102
12.4.3 TAIWAN 103
12.4.4 SINGAPORE 104
12.4.5 SOUTH KOREA 105
12.4.6 REST OF ASIA-PACIFIC 105

13 COMPETITIVE LANDSCAPE 107
13.1 INTRODUCTION 107
13.2 MARKET RANKING ANALYSIS: WAFER CLEANING EQUIPMENT MARKET 108
13.3 COMPETITIVE ANALYSIS 109
13.4 RECENT DEVELOPMENTS 110
13.4.1 NEW PRODUCT LAUNCHES AND DEVELOPMENTS 110
13.4.2 PARTNERSHIPS, COLLABORATIONS, AGREEMENTS, AND EXPANSIONS 111
13.4.3 MERGERS AND ACQUISITIONS 113
13.4.4 AWARDS STRATEGIES 114

14 COMPANY PROFILE 115
14.1 INTRODUCTION 115
(Business Overview, Products & Services, Key Insights, Recent Developments, SWOT Analysis, Ratio Analysis, MnM View)*
14.2 SCREEN HOLDINGS CO., LTD. 116
14.3 TOKYO ELECTRON LIMITED 119
14.4 LAM RESEARCH CORPORATION 122
14.5 APPLIED MATERIALS, INC. 125
14.6 SEMES CO., LTD. 128
14.7 MODUTEK CORPORATION 129
14.8 SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION 130
14.9 PVA TEPLA AG 133
14.10 ENTEGRIS, INC. 135
14.11 VEECO INSTRUMENTS INC. 137
*Details on Business Overview, Products & Services, Key Insights, Recent Developments, SWOT Analysis, MnM View might not be captured in case of unlisted companies.

15 APPENDIX 139
15.1 INSIGHTS OF INDUSTRY EXPERTS 139
15.2 DISCUSSION GUIDE: 140
15.3 KNOWLEDGE STORE: MARKETSANDMARKETS’ SUBSCRIPTION PORTAL 142
15.4 INTRODUCING RT: REAL-TIME MARKET INTELLIGENCE 144
15.5 AVAILABLE CUSTOMIZATION 146
15.6 RELATED REPORTS 146
15.7 AUTHOR DETAILS 147

・イントロダクション
・エグゼクティブサマリー
・ウエハ洗浄装置の世界市場:市場インサイト
・ウエハ洗浄装置の世界市場:市場概観/市場動向
・ウエハ洗浄装置の世界市場:産業動向
・ウエハ洗浄装置の世界市場:バリューチェーン分析
・ウエハ洗浄装置の世界市場:市場シェア分析
・ウエハ洗浄装置の世界市場:装置種類別分析/市場規模
・ウエハ洗浄装置の世界市場:用途別分析/市場規模
・ウエハ洗浄装置の世界市場:ウェハサイズ別分析/市場規模
・ウエハ洗浄装置の世界市場:地域別分析/市場規模
・ウエハ洗浄装置のアジア市場規模予測
・ウエハ洗浄装置のヨーロッパ市場規模予測
・ウエハ洗浄装置のアメリカ市場規模予測
・ウエハ洗浄装置の世界市場動向
・ウエハ洗浄装置の世界市場:競争状況
・ウエハ洗浄装置の世界市場:関連企業分析

※「ウエハ洗浄装置の世界市場予測(~2022年)」レポート詳細紹介ページ
https://www.marketreport.jp/Wafer-Cleaning-Equipment-Market-Equipment-MAM-SE1235-data
https://www.globalresearch.co.jp/Wafer-Cleaning-Equipment-Market-Equipment-MAM-SE1235-data

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「ウエハ洗浄装置の世界市場予測(~2022年)」調査レポート:ウエハ洗浄装置、ウエハ洗浄技術、市場動向、市場規模、市場予測...



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