「原子層堆積(ALD)法の世界市場:タイプ別(フィルム、プリカーサ、材料、その他)、製品タイプ別(酸化アルミニウムALD、触媒ALD、金属ALD、プラズマ使用ALD、その他)、用途別、最終用途別(半導体・電子、化学 、エネルギー、その他)、地域別予測」調査レポート

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H&Iグローバルリサーチ(株)
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H&Iグローバルリサーチ株式会社(本社:東京都中央区)は、この度、Bizwit Research & Consultingが発行した「原子層堆積(ALD)法の世界市場:タイプ別(フィルム、プリカーサ、材料、その他)、製品タイプ別(酸化アルミニウムALD、触媒ALD、金属ALD、プラズマ使用ALD、その他)、用途別、最終用途別(半導体・電子、化学 、エネルギー、その他)、地域別予測」調査レポートの取扱・販売をMarketReport.jpサイト(取扱レポート数:15万件以上、日本最大級)にて開始しました。国内企業の海外進出、事業戦略策定や新規事業創出などに必要な情報資料です。

***** レポート概要 *****
◆日本語タイトル:原子層堆積(ALD)法の世界市場:タイプ別(フィルム、プリカーサ、材料、その他)、製品タイプ別(酸化アルミニウムALD、触媒ALD、金属ALD、プラズマ使用ALD、その他)、用途別、最終用途別(半導体・電子、化学 、エネルギー、その他)、地域別予測
◆英語タイトル:Global Atomic Layer Deposition (ALD) Market Size study, by Type (Film, Precursor, Material, Others), by Product Type (Aluminum oxide ALD, Catalytic ALD, Catalytic ALD, Metal ALD, Plasma Enhanced ALD, Other Products), by Application, by End-Use (Semiconductors & Electronics, Chemical, Energy, Others) and by Regional Forecasts 2018-2025
◆商品コード:BZW829057
◆発行会社(調査会社):Bizwit Research & Consulting
◆ページ数:約80
◆レポート言語:英語
◆レポート形式:PDF
◆納品方法:Eメール
◆調査対象地域:グローバル
◆産業分野:工業生産・装置

***** レポート目次(一部抜粋) *****
本資料は、原子層堆積(ALD)法の世界市場について調べ、原子層堆積(ALD)法の世界規模、市場動向、市場環境、タイプ別(フィルム、プリカーサ、材料、その他)分析、製品タイプ別(酸化アルミニウムALD、触媒ALD、金属ALD、プラズマ使用ALD、その他)分析、用途別分析、最終用途別(半導体・電子、化学 、エネルギー、その他)分析、アメリカ市場規模、ヨーロッパ市場規模、アジア市場規模、日本市場規模、中国市場規模、関連企業情報などをまとめた調査レポートです。

・イントロダクション
・エグゼクティブサマリー
・原子層堆積(ALD)法の世界市場概要
・原子層堆積(ALD)法の世界市場環境
・原子層堆積(ALD)法の世界市場動向
・原子層堆積(ALD)法の世界市場規模
・原子層堆積(ALD)法の世界市場規模:タイプ別(フィルム、プリカーサ、材料、その他)
・原子層堆積(ALD)法の世界市場規模:製品タイプ別(酸化アルミニウムALD、触媒ALD、金属ALD、プラズマ使用ALD、その他)
・原子層堆積(ALD)法の世界市場規模:用途別
・原子層堆積(ALD)法の世界市場規模:最終用途別(半導体・電子、化学 、エネルギー、その他)
・原子層堆積(ALD)法の世界市場:地域別市場規模・分析
・原子層堆積(ALD)法の北米市場規模・予測
・原子層堆積(ALD)法のアメリカ市場規模・予測
・原子層堆積(ALD)法のヨーロッパ市場規模・予測
・原子層堆積(ALD)法のアジア市場規模・予測
・原子層堆積(ALD)法の日本市場規模・予測
・原子層堆積(ALD)法の中国市場規模・予測
・関連企業情報

※「原子層堆積(ALD)法の世界市場:タイプ別(フィルム、プリカーサ、材料、その他)、製品タイプ別(酸化アルミニウムALD、触媒ALD、金属ALD、プラズマ使用ALD、その他)、用途別、最終用途別(半導体・電子、化学 、エネルギー、その他)、地域別予測」レポート詳細紹介ページ
https://www.marketreport.jp/Global-Atomic-Layer-Deposition-ALD-BZW829057-report
https://www.globalresearch.co.jp/Global-Atomic-Layer-Deposition-ALD-BZW829057-report

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